低溫恒溫循環(huán)槽MD20-4低溫恒溫循環(huán)槽MD20-4可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量
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低溫恒溫槽MD10-20低溫恒溫水槽提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05
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低溫恒溫循環(huán)裝置JMYZ-2-A主要有壓縮機、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等部件組成，可以直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，各檔制冷功率輸出，滿足常規(guī)實驗室小制冷量輸出的和設備需求，廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門、高等院校、企業(yè)質(zhì)檢及生產(chǎn)部門，為用戶工作時提供一個冷熱受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境，對試驗樣品或生產(chǎn)的產(chǎn)品在槽內(nèi)直接進行恒定溫度試驗或測試，如對旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫。
加熱制冷浴槽MD30-12，容積12L，控溫范圍-30℃～90℃，用于石油化工、制藥及半導體工業(yè)等領域低溫測量與檢定，樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用
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加熱制冷浴槽MD30-8主要有壓縮機、冷凝器、節(jié)流閥、換熱器、循環(huán)泵、加熱器等幾大件組成，可以直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥及半導體工業(yè)等領域低溫測量與檢定，樣品保存等浸入式實驗或外循環(huán)應用。
低溫恒溫槽MD10-20提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動度±0.05℃。
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低溫恒溫槽MD10-4，容積4.5L，控溫范圍-10℃～90℃，溫度波動度0.05℃，樣品保存、分析測試、石油、化工、電子儀表、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等行業(yè)等浸入式或外循環(huán)應用
詳細內(nèi)容>>冷卻水循環(huán)機JM11BK，制冷量1100W，為用戶提供恒溫，恒壓，恒流的液體環(huán)境，精密恒溫控制系統(tǒng)，整個量程范圍的溫度精確可控，適用于5℃～35℃化工、制藥等化學反應工藝過程控制等.
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低溫恒溫循環(huán)槽MD20-12可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
詳細內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-8可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
詳細內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-4可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
詳細內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-20，容積20L，控溫范圍：-20℃～90℃（最高溫度100℃），制冷系統(tǒng)采用思科普壓縮機，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于-20℃的樣品保存、分析
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低溫恒溫槽MD10-20，容積20L，控溫范圍-5℃～90℃，最高溫度100℃，作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)使用
詳細內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-12，容積12L，控溫范圍-20℃～90℃，最高溫度100℃，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
詳細內(nèi)容>>低溫恒溫循環(huán)槽MD20-8，容積8L，溫度波動度0.05℃，用于-20℃的樣品保存、分析測試和計量檢定等
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低溫恒溫水槽MD5-8，容積8L，控溫范圍-5℃～90℃，最高溫度100℃，配置9點溫度校準和單點溫度校準，溫度數(shù)據(jù)更可靠
詳細內(nèi)容>>低溫恒溫水槽MD5-4，容積4.5L，控溫范圍-5℃～90℃，溫度波動度0.05℃，提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，半導體擴散爐擴散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應用
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